3月17日，深圳市重点产业研发计划“IC制造中浅沟槽隔离及光刻掩膜版稀土抛光液关键技术研发”项目启动会在中国稀土集团深圳创新总部基地举行。

    该项目面向集成电路关键材料自主可控这一国家战略需求，旨在打通从基础研究到产业应用的完整链条，实现高端稀土抛光液的国产替代。

    会上，项目负责人就项目整体规划作了系统汇报。各参与单位分别汇报了所承担的工作任务。项目专家组围绕技术路线、指标设定、项目管理等方面提出了多项建设性意见。